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模型 :
MO-D330-6保修单 :
1 year1米处的辐照度 :
>100 mW/cm²均匀性 :
±10%172nm 中心辐照度 :
>70 mW/cm² @3mm平均使用寿命（辐照度≥70%） :
2,500 hrs尺寸 :
(350×350mm irradiation window)工作湿度 :
20%~80%工作温度 :
-5°C~30°C总功率 :
1200W ±10%输入电压（V） :
AC 110~240V作为一家专业的中国准分子灯制造商
172nm真空紫外光具有极强的氧化性，能够分解晶圆上的有机污垢和微小颗粒，且不留任何残留物。这确保了半导体制造的精准性。
172nm准分子灯发出高能紫外光，用于去除OLED/显示面板掩模上的杂质，从而防止像素缺陷，适用于京东方（BOE）、TCL华星光电（CSOT）等生产线。
用于FMM精细金属掩模清洗的紫外灯，用于Invar掩模清洗的172nm准分子灯，
OLED蒸发掩模紫外线清洗，172nm真空紫外线金属掩模清洗
172nm真空紫外光能够分解这些掩模上的有机物，而不会损坏掩模的结构，从而确保像素定位的精确性。这直接提高了生产良率。
172nm VUV辊涂系统，准分子UV消光。
172nm准分子紫外光可改变薄膜表面，形成粗糙纹理，有利于消光和提高涂层附着力。适用于连续辊涂工艺。
表面辐照度 > 100 mW/cm²；70 mW/cm²（@3mm）。有效去除有机污染物。
优质电极和精准的气体控制。基本使用寿命超过2500小时。1000小时质保，衰减。 < 30%。专业用途可达 3000 小时以上。
照射窗口尺寸为350×350毫米，均匀性±10%。窗口尺寸可根据您的要求定制。
无需预热，即时启动。支持高频运行和卷对卷辊涂系统。
在-5°C至30°C范围内可靠运行，非常适合洁净室和温控区域。
可与多种生产设备配合使用。我们提供定制化解决方案，交付快捷，且无需开发成本。
采用 172nm 无汞紫外光源，确保安全和环保。
凭借30年紫外光领域及设备制造经验，具备大规模生产能力、产品一致性高、性能稳定、交货可靠、准时等特点。
经认证的质量管理体系，确保达到优质的生产标准。
完全符合欧洲健康、安全和环境保护法规。
环保生产，完全不含任何有害物质。
北美高级电气安全和防火合规标准。
172nm VUV准分子灯通过气体放电产生高能真空紫外光。它具有极高的光子能量，远远超过常见有机分子的键能。
光具有强大的分子键断裂能力，可直接分解有机污染物。它还能产生活性氧，从而增强清洁和去除总有机碳的效果。
作为 Ushio 准分子灯和 Hamamatsu 172nm 准分子灯的可靠替代品，它适用于半导体清洗、冷板清洗、CDU 和 UPW 水处理、薄膜消光等工业场景。
这款产品专为超纯水 (UPW) 系统设计，环保且不含汞。 172nm VUV模块 它能引发强效的自由基氧化反应，将总有机碳（TOC）浓度降低至ppb级。通过将有机化合物转化为痕量二氧化碳和水，它为半导体、制药和实验室提供理想的水净化解决方案。其智能模块化设计简化了现场维护和系统扩展，并完全支持定制功率和流量。
使用 GMY 的产品提升您的表面处理精度 172nm准分子灯利用先进技术 光化学氧化我们不含汞的 172nm 紫外光解决方案可有效分解有机污染物，从而在半导体晶圆、显示器基板和光学器件上实现原子级清洁。
探索 GMY 的高效性 172nm准分子灯 为了 工业光固化. 无汞、功率强大的 350W-1000W VUV 灯，用于快速表面交联、哑光处理和 PPF/PCB 涂层改性。与传统的 UV 固化相比，它缩短了固化时间并增强了表面改性效果。
这 GMY 172nm 光改性模块 该模块是目前首屈一指的真空兼容型解决方案，可用于激活牙科植入体的亲水性。它采用精准的172nm准分子激光技术，通过分解有机碳氢化合物来净化钛表面，从而显著增强二氧化钛的生物活性和骨整合能力。该模块专为无缝集成而设计，其优势在于高功率输出、极低的热影响、快速的反应周期以及广泛均匀的光束覆盖范围。
GMY 172nm准分子灯 向 降解TOC 超纯水中污染物浓度可达ppb级。用于工业水处理的15W/20W无汞紫外线灯。我们的紫外线系统通过产生自由基，将有机物氧化成二氧化碳和水分子。这项先进技术尤其适用于超纯水生产。
这 172nm准分子紫外器件 交付 高能光清洗 和 纳米级表面改性 适用于半导体、电池和先进材料。该紧凑型系统利用172nm冷紫外光子，可在不损伤基材的情况下破坏有机化学键并氧化污染物。具有高度均匀性 ±15% 其工作温度低于 40°C，为传统的低压汞灯提供了一种环保、低能耗的替代方案。
