172nm高能真空紫外（UV）准分子系统代表着一种范式转变
干式工业清洗和原子级表面改性。
专为半导体封装、锂离子电池开发和显示器制造领域而设计，
这种高通量光子系统作用于有机表面污染物的分子结构。
不改变基底本体性质。
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清洗速度是传统低压汞灯的 10 倍，大大加快了在线或批量处理周期。
可根据加工宽度单独切换每个灯模块，最大限度地提高能量平衡并延长灯的总使用寿命。
防止对热敏材料造成热损伤，保持稳定的基板表面温度严格不超过 40℃。
高度环保的建筑设计，与标准汞灯配置相比，能耗降低 65%，且不损失光照强度。
采用高度紧凑的电源装置，可轻松支持空间受限的自动化生产线内的整个处理系统。
设计便于日常清洁和维护，使操作人员能够快速更换灯泡，防止停机。
保证指定照射区域内辐照度均匀性为±15%，显著提高批量处理的稳定性。
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经认证的质量和环境管理体系，确保生产校准的一致性。
完全符合欧洲职业健康、系统安全和防护标准。
绿色硬件架构，不含铅、汞和受限有害重元素。
符合北美严格的电气绝缘、接地和运行安全标准。
这款产品专为超纯水 (UPW) 系统设计，环保且不含汞。 172nm VUV模块 它能引发强效的自由基氧化反应，将总有机碳（TOC）浓度降低至ppb级。通过将有机化合物转化为痕量二氧化碳和水，它为半导体、制药和实验室提供理想的水净化解决方案。其智能模块化设计简化了现场维护和系统扩展，并完全支持定制功率和流量。
使用 GMY 的产品提升您的表面处理精度 172nm准分子灯利用先进技术 光化学氧化我们不含汞的 172nm 紫外光解决方案可有效分解有机污染物，从而在半导体晶圆、显示器基板和光学器件上实现原子级清洁。
探索 GMY 的高效性 172nm准分子灯 为了 工业光固化. 无汞、功率强大的 350W-1000W VUV 灯，用于快速表面交联、哑光处理和 PPF/PCB 涂层改性。与传统的 UV 固化相比，它缩短了固化时间并增强了表面改性效果。
这 GMY 172nm 光改性模块 该模块是目前首屈一指的真空兼容型解决方案，可用于激活牙科植入体的亲水性。它采用精准的172nm准分子激光技术，通过分解有机碳氢化合物来净化钛表面，从而显著增强二氧化钛的生物活性和骨整合能力。该模块专为无缝集成而设计，其优势在于高功率输出、极低的热影响、快速的反应周期以及广泛均匀的光束覆盖范围。
GMY 172nm准分子灯 向 降解TOC 超纯水中污染物浓度可达ppb级。用于工业水处理的15W/20W无汞紫外线灯。我们的紫外线系统通过产生自由基，将有机物氧化成二氧化碳和水分子。这项先进技术尤其适用于超纯水生产。
这 172nm准分子紫外器件 交付 高能光清洗 和 纳米级表面改性 适用于半导体、电池和先进材料。该紧凑型系统利用172nm冷紫外光子，可在不损伤基材的情况下破坏有机化学键并氧化污染物。具有高度均匀性 ±15% 其工作温度低于 40°C，为传统的低压汞灯提供了一种环保、低能耗的替代方案。
