精密制造光源解决方案

半导体行业的照明

针对高端制造业对进口核心光源的高度依赖这一行业痛点，GMY与下游设备制造商合作开展针对性研发。凭借其在光清洗、光聚合、表面改性、流体灭菌和工业废气处理方面的技术专长，GMY提供经济高效的光学应用解决方案，满足精密行业严苛的工艺要求，并具有稳定的辐射输出。

172nm光清洗

172nm准分子紫外光的高能量子辐射能够破坏材料表面有机污染物的分子链，同时激发生物活性氧和自由基的生成。这能迅速将残留有机物氧化降解为气态二氧化碳和水，从而实现非接触式、无化学残留的超洁净表面处理。

我们提供广泛应用于以下领域的尖端解决方案：

该工艺采用172nm准分子激光表面消光固化技术，利用特定的高能波长直接断裂聚合物分子键，引发单体和低聚物之间的高速交联反应。与传统的宽带紫外固化相比，该工艺能够精确地对表面进行微重构，在极短时间内实现均匀的微折叠消光效果，显著提高表面硬度和耐刮擦性。

适用于以下领域：

结合185nm紫外光源和172nm准分子灯技术，可在流体管道内引发强效的光化学反应。光催化分解水分子，生成高活性羟基自由基，从而将水中残留的总有机碳（TOC）完全氧化分解为二氧化碳（CO₂）和水（H₂O）。172nm准分子光源具有更高的光子能量，可高效去除超纯水和超高纯水（UPW）系统中的TOC。

应用领域包括：

超纯水（UPW）最终产品制备系统中的深度TOC去除；饮用水中微污染物的处理；高纯度工业臭氧的产生；痕量农药和化学残留物的光催化分解；纺织印染废水的高效光催化脱色。

表面能增强：

通过172nm准分子光的辐射作用，非极性材料表面的烃分子链被高效断裂。光化学反应引入大量极性亲水基团，例如羟基（-OH）和羧基（-COOH），显著提高了材料的表面自由能。经处理的基材可实现完全亲水化，液滴瞬间从微球转变为均匀润湿的液膜。

钛、铝箔等。

硅晶片，ITO玻璃基板。

PP、PC、PE、PMMA、PET、PVC、PS。

观看我们先进的 172nm 准分子光源应用、精密质量检测线和自动化生产工作流程的实际应用。

与 GMY 合作，获取性能卓越的 172nm 准分子灯和可定制的光清洗系统，以满足您的行业标准。