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使用 GMY 的产品提升您的表面处理精度 172nm准分子灯利用先进技术 光化学氧化我们不含汞的 172nm 紫外光解决方案可有效分解有机污染物,从而在半导体晶圆、显示器基板和光学器件上实现原子级清洁。
100% 环保真空紫外线处理,完全符合国际 RoHS 限制,消除洁净室中危险的汞危害和处置风险。
发射高能真空紫外波长,持续电离周围氧分子,产生高密度活性羟基自由基(HO*),从而快速断裂有机键。
依托大规模工业化生产线,确保批次完全一致,出货前经过严格的老化测试,以及万无一失的供应链可靠性。
定制弧长、包络尺寸、多针电气帽端子和匹配的镇流器控制,以实现与定制工具的无缝机械集成。
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适用于大面积玻璃板表面的宏观真空紫外干法处理。在阵列处理层之前有效清除残留的多分子痕迹,以确保最大程度的均匀性和更低的废品率。
可从原始硅表面去除肉眼不可见的有机团簇和空气中的碳氢化合物,直至原子级别。为原生光刻轨道和氧化物堆叠层制备关键的晶圆图案。
在倒装芯片键合之前,对微凸块和高密度集成电路互连布局进行去污。清洁端子线路,显著增强底部填充材料的粘合力,并消除封装分层。
为精密棱镜、晶体元件和先进激光光学元件提供零接触、冷源干洗。保护薄膜抗反射层免受手动清洁造成的划痕和溶剂痕迹的影响。
清洁薄膜晶体管 (TFT) 液晶板、彩色滤光片和偏光片。最大程度提高表面润湿性,以支持高速装配线加工过程中材料的均匀铺展。
优化柔性电子纸显示器上的复杂聚合物背衬层和矩阵面板。显著提高界面交联密度,且不引入结构热变形。
对树脂或玻璃材质的可穿戴智能镜片进行精密光清洗。在气相沉积工艺之前大幅降低表面水接触角,以确保获得持久耐用、无条纹的光学镀膜。
触发聚合物树脂和微流控芯片实验室装置上的化学修饰和功能极性基团(-OH、-COOH)插入,从而建立固体基底毛细管通道和永久粘合。
经认证的质量管理体系,确保达到优质的生产标准。
完全符合欧洲健康、安全和环境保护法规。
环保生产工艺,完全不含任何有害物质。
北美高级电气安全和防火合规标准。
这款产品专为超纯水 (UPW) 系统设计,环保且不含汞。 172nm VUV模块 它能引发强效的自由基氧化反应,将总有机碳(TOC)浓度降低至ppb级。通过将有机化合物转化为痕量二氧化碳和水,它为半导体、制药和实验室提供理想的水净化解决方案。其智能模块化设计简化了现场维护和系统扩展,并完全支持定制功率和流量。
探索 GMY 的高效性 172nm准分子灯 为了 工业光固化. 无汞、功率强大的 350W-1000W VUV 灯,用于快速表面交联、哑光处理和 PPF/PCB 涂层改性。与传统的 UV 固化相比,它缩短了固化时间并增强了表面改性效果。
这 GMY 172nm 光改性模块 该模块是目前首屈一指的真空兼容型解决方案,可用于激活牙科植入体的亲水性。它采用精准的172nm准分子激光技术,通过分解有机碳氢化合物来净化钛表面,从而显著增强二氧化钛的生物活性和骨整合能力。该模块专为无缝集成而设计,其优势在于高功率输出、极低的热影响、快速的反应周期以及广泛均匀的光束覆盖范围。
GMY 172nm准分子灯 向 降解TOC 超纯水中污染物浓度可达ppb级。用于工业水处理的15W/20W无汞紫外线灯。我们的紫外线系统通过产生自由基,将有机物氧化成二氧化碳和水分子。这项先进技术尤其适用于超纯水生产。
这 172nm准分子紫外器件 交付 高能光清洗 和 纳米级表面改性 适用于半导体、电池和先进材料。该紧凑型系统利用172nm冷紫外光子,可在不损伤基材的情况下破坏有机化学键并氧化污染物。具有高度均匀性 ±15% 其工作温度低于 40°C,为传统的低压汞灯提供了一种环保、低能耗的替代方案。