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GMY 172nm准分子灯 向 降解TOC 超纯水中污染物浓度可达ppb级。用于工业水处理的15W/20W无汞紫外线灯。我们的紫外线系统通过产生自由基,将有机物氧化成二氧化碳和水分子。这项先进技术尤其适用于超纯水生产。
100% 无汞真空紫外技术。可安全集成到半导体、制药和食品级超纯水循环系统中,完全没有重金属泄漏或污染的风险。
发射高能 172nm 光子,直接裂解水分子生成活性羟基自由基 (HO•),快速氧化持久性有机痕量元素。
采用自动化精密生产线制造,为关键工业系统提供稳定的单色输出(>23 mW/cm²)和可靠的光谱性能。
可提供灵活的定制规格,包括灯管长度、直径、电气端子和集成电子镇流器配对,以配合多吨级处理室。
在高纯工业水循环系统中,可高效去除低至个位数ppb级别的总有机碳(TOC)。
先进的水处理和净化装置旨在去除饮用水中残留的痕量化学污染物。
工业流入物中难降解化学结构和持久性有机农药元素的深度光解和裂解。
针对难降解有机染料和难降解化合物的光催化脱色和高级氧化过滤技术。
利用强烈的单色 172nm 氧光解作用产生清洁、高浓度的臭氧,而不会产生有毒的 NOx。
经认证的质量管理体系,确保达到优质的生产标准。
完全符合欧洲健康、安全和环境保护法规。
环保生产,完全不含任何有害物质。
北美高级电气安全和防火合规标准。
这款产品专为超纯水 (UPW) 系统设计,环保且不含汞。 172nm VUV模块 它能引发强效的自由基氧化反应,将总有机碳(TOC)浓度降低至ppb级。通过将有机化合物转化为痕量二氧化碳和水,它为半导体、制药和实验室提供理想的水净化解决方案。其智能模块化设计简化了现场维护和系统扩展,并完全支持定制功率和流量。
使用 GMY 的产品提升您的表面处理精度 172nm准分子灯利用先进技术 光化学氧化我们不含汞的 172nm 紫外光解决方案可有效分解有机污染物,从而在半导体晶圆、显示器基板和光学器件上实现原子级清洁。
探索 GMY 的高效性 172nm准分子灯 为了 工业光固化. 无汞、功率强大的 350W-1000W VUV 灯,用于快速表面交联、哑光处理和 PPF/PCB 涂层改性。与传统的 UV 固化相比,它缩短了固化时间并增强了表面改性效果。
这 GMY 172nm 光改性模块 该模块是目前首屈一指的真空兼容型解决方案,可用于激活牙科植入体的亲水性。它采用精准的172nm准分子激光技术,通过分解有机碳氢化合物来净化钛表面,从而显著增强二氧化钛的生物活性和骨整合能力。该模块专为无缝集成而设计,其优势在于高功率输出、极低的热影响、快速的反应周期以及广泛均匀的光束覆盖范围。
这 172nm准分子紫外器件 交付 高能光清洗 和 纳米级表面改性 适用于半导体、电池和先进材料。该紧凑型系统利用172nm冷紫外光子,可在不损伤基材的情况下破坏有机化学键并氧化污染物。具有高度均匀性 ±15% 其工作温度低于 40°C,为传统的低压汞灯提供了一种环保、低能耗的替代方案。