

晶圆和FMM清洗
薄膜消光和涂层
冷板有机颗粒去除
亲水改性
这款产品专为超纯水 (UPW) 系统设计,环保且不含汞。 172nm VUV模块 它能引发强效的自由基氧化反应,将总有机碳(TOC)浓度降低至ppb级。通过将有机化合物转化为痕量二氧化碳和水,它为半导体、制药和实验室提供理想的水净化解决方案。其智能模块化设计简化了现场维护和系统扩展,并完全支持定制功率和流量。
半导体 UPW TOC
医药级纯水总有机碳含量
实验室超纯水
在线总有机碳减量系统
使用 GMY 的产品提升您的表面处理精度 172nm准分子灯利用先进技术 光化学氧化我们不含汞的 172nm 紫外光解决方案可有效分解有机污染物,从而在半导体晶圆、显示器基板和光学器件上实现原子级清洁。
显示基板
半导体硅晶圆集成电路
集成电路
光学器件
液晶显示器生产
电子纸
AR镜片
微纳制造
探索 GMY 的高效性 172nm准分子灯 为了 工业光固化. 无汞、功率强大的 350W-1000W VUV 灯,用于快速表面交联、哑光处理和 PPF/PCB 涂层改性。与传统的 UV 固化相比,它缩短了固化时间并增强了表面改性效果。
车漆保护膜
软触面板
涂层设备
纸张和包装油墨
家具油墨
汽车油墨及相关涂料
着色和透明涂料
PCB油墨
粘合涂层
3D打印
这 GMY 172nm 光改性模块 该模块是目前首屈一指的真空兼容型解决方案,可用于激活牙科植入体的亲水性。它采用精准的172nm准分子激光技术,通过分解有机碳氢化合物来净化钛表面,从而显著增强二氧化钛的生物活性和骨整合能力。该模块专为无缝集成而设计,其优势在于高功率输出、极低的热影响、快速的反应周期以及广泛均匀的光束覆盖范围。
表面改性
去除有机污染物
超精细清洁
这 172nm MINl准分子模块 是一款紧凑型、即插即用的桌面解决方案,适用于 半导体研发 和 实验室验证它释放短波真空紫外线 (VUV) 辐射,可裂解分子键以消除有机污染物并改变表面能,而不会损坏基材,为研究实验室和大学提供了一个灵活的工艺验证平台。
柔性显示屏
光学薄膜
涂层前的预处理
这 172nm准分子紫外器件 交付 高能光清洗 和 纳米级表面改性 适用于半导体、电池和先进材料。该紧凑型系统利用172nm冷紫外光子,可在不损伤基材的情况下破坏有机化学键并氧化污染物。具有高度均匀性 ±15% 其工作温度低于 40°C,为传统的低压汞灯提供了一种环保、低能耗的替代方案。
172纳米波长
> 45 mW/cm²强度
30升/分钟氮输入
GMY 172nm准分子灯 向 降解TOC 超纯水中污染物浓度可达ppb级。用于工业水处理的15W/20W无汞紫外线灯。我们的紫外线系统通过产生自由基,将有机物氧化成二氧化碳和水分子。这项先进技术尤其适用于超纯水生产。
超纯水去除总有机碳
饮用水中的微量污染物
农药残留的分解
纺织染料废水处理
高纯度臭氧发生