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高能紫外线装置

高能紫外线装置

  • 172nm准分子高能紫外清洗装置半导体电池表面改性

    172nm准分子紫外器件 交付 高能光清洗纳米级表面改性 适用于半导体、电池和先进材料。该紧凑型系统利用172nm冷紫外光子,可在不损伤基材的情况下破坏有机化学键并氧化污染物。具有高度均匀性 ±15% 其工作温度低于 40°C,为传统的低压汞灯提供了一种环保、低能耗的替代方案。

    172纳米波长

    > 45 mW/cm²强度

    30升/分钟氮输入

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