172nm准分子光催化：一种克服水体中PFAS污染难降解性的新型物理途径

全氟和多氟烷基物质（PFAS）是一类具有高度生物累积性和毒性的新型持久性有机污染物，采用传统的水体生态修复方法极难降解。为了应对这一全球环境挑战，日本最新的环境实证研究提出了一种新的技术方向：利用172nm准分子光高能辐射进行光解和无害处理，为这些顽固的有机化合物提供了一种高效的物理去除方法。

技术背景：PFAS修复的困境——“永久性化学物质”

全氟和多氟烷基物质（PFAS）是典型的合成有机化合物。由于其分子结构中存在极强的碳-氟键，它们具有优异的化学稳定性、耐热性以及疏水疏油性能，被广泛应用于各种工业制造和消费品中。由于它们几乎不可能在自然界中自发降解，因此被业界形象地称为“永久性化学品”，对水安全构成长期而严峻的挑战。

172nm准分子光解机理及定量效率

172nm准分子光解PFAS的工艺流程和核心机理如下：

工艺流程：首先，通过预处理回收和浓缩技术，以高速率提取和聚集流体中的 PFAS。

反应机理：随后引入172nm准分子光源，输入高能量子辐射。在水分子、高活性羟基自由基（·OH）和电子的高速协同裂解作用下，分子链直接断裂。

经验证据：实验数据证实，即使在浓度高达 mg/L 的情况下，水中的 PFOA（全氟辛酸）和 PFOS（全氟辛烷磺酸）在特定的反应周期内也能达到约 99% 的降解和去除率。

GMY：工业级172nm准分子光源解决方案提供商

GMY凭借其在特种电光源领域深厚的技术积累，现已构建起一套完整的172nm准分子光技术研发体系。除了尖端水处理和顽固污染物降解之外，我们的模块化解决方案还广泛应用于工业光清洗、高效光聚合、表面疏水改性以及超纯水生产中TOC深度降低等关键工艺。

我们利用尖端光子技术，不断向科研机构、高端制造商和现代环境工程公司提供高度一致的特种光源组件和定制的 OEM/ODM 服务，以克服各行业环境治理的局限性。